FO 1200메쉬 광학 미세분말 D50:7.1±0.7μm
| 목 | 크기 | 비중 | 알루미늄2오세 | 이산화규소(SiO2) | Fe2O3 | 이산화티타늄(TiO2) | ZrO2 |
| FO 광학 미세 분말 | 1200메쉬 | ≥3.90 | ≥45.0% | 20.0% 이하 | ≤0.5% | 2.0% 이하 | ≤33.0% |
FO 1200mesh 광학 미세분말의 입자 크기 분포(PSD) D50: 7.1±0.7μm
| 크기 | D0(um) | 디3(움) | D50(하나) | D94(um) |
| 1200메쉬 | ≤23.0 | ≤20.0 | 7.1±0.7 | ≥4.0 |
FO 광학 미세 분말 주요 응용 분야
반도체 웨이퍼의 연삭 및 연마
–다양한 광학 유리 표면 처리
— 광학 결정으로 만든 렌즈, 프리즘, 거울, 필터 등의 연마 및 광택 작업.
압전 재료의 표면 처리
FO 광학 미세 분말 포장
10kg PVC 백 + 팔레트
